晶面

晶面代表的是什么类型晶面所谓晶面，是指晶体中的平面点阵面（晶体宏观的外表面也称晶面），晶面用晶面指标定义，晶面在三个晶轴上的倒易截数之比可以化为一组互质的整数比hkl，如立方晶系100面代表与晶胞侧面平行的一组点阵面，110面为沿面对角线将晶胞平分的一组点阵面，111面为与体对角线垂直的一组点阵面。

晶面指数的画法如下：1、对晶胞作晶轴X、Y、Z，以晶胞的边长作为晶轴上的单位长度；2、求出待定晶面在三个晶轴上的截距(如该晶面与某轴平行，则截距为∞)，例如l、1、∞，1、1、1，1、1、1/2等；3、取这些截距数的倒数，例如110，111，112等；4、将上述倒数化为最小的简单整数，并加上圆括号，即表示该晶面的指数，一般记为（hkl），例如（110），（111），（112）等。

石墨的层与层之间距为0.34nm,而(002)就是石墨各层所行成的间距为0.34nm的晶面族。双晶面一般平行于单晶体的实际晶面或可能晶面，或者垂直于单晶体的实际晶棱或可能晶棱。它可以用平行于某晶面或者垂直于某结晶轴来表示。例如，石膏燕尾双晶的双晶面平行于（100），尖晶石双晶的双晶面平行于（111）。

001晶面的画法：1、对晶胞作晶轴X、Y、Z，以晶胞的边长作为晶轴上的单位长度。2、求出待定晶面在三个晶轴上的截距。3、取这些截距数的倒数。4、将上述倒数化为最小的简单整数，并加上圆括号，即表示该晶面的指数，一般记为（hkl），例如（110），（111），（112）等。概述在晶体中由原子、离子或分子的阵点所组成的平面。

同族晶面判断：对晶胞作晶轴X、Y、Z，以晶胞的边长作为晶轴上的单位长度。求出待定晶面在三个晶轴上的截距(如该晶面与某轴平行，则截距为∞)，例如l、1、∞，1、1、1，1、1、1/2等；取这些截距数的倒数，例如110，111，112等；倒数化为最小的简单整数，并加上圆括号，即表示该晶面的指数，一般记为（hkl），例如（110），（111），（112）等。

点阵中一定有一系列间距相等的晶面与此晶面相平行，为表征晶面，采用晶面指数，亦称为米勒(M．H．Miller)指数。只要求得任一晶面与三条晶轴的三个截距．取其倒数，用最小公倍数乘之，将所得最小(互质)整数加以圆括号，即为晶面指数(若截距为负值，需在晶面指数上加一负号)。

石材晶面处理是赋予石材表面光泽的一种装修手法，这种操作对于属于装修小白阶段的业主们来说是很有必要了解一下的。那么，石材晶面处理是怎么操作呢?下面，我就来给大家介绍一下石材晶面处理的知识。一、石材晶面处理方法1、细磨第一步，就要用到专用的打磨机，用石磨碟对石材地面进行细磨。从500#1500#由粗到细进行局部打磨，对目标地面进行水平、横竖、对角来回打磨。

细磨的主要目的就是将石材表面的痕迹打磨到无痕迹为止。2、精磨使用器材方面也是和细磨一样，打磨精细程度不同，要求从2000#磨至3000#，将石材表面磨至真光程度。3、抛光这步器材改用晶面机，用专业的大理石抛光粉搭配百洁垫进行抛光。在施工时，将抛光粉洒在石面上，并洒上一些水，然后上晶面机，对石面进行反复摩擦。石材的避免会在高温化学作用下达到镜面的效果。

暴露的晶面是由于载玻片物体的不同所产生的不同晶面。晶面有条纹与格子，这两种晶面会出现哪一种要看电子入射方向晶体面的夹角，如果夹角不合适可能只出现一种晶面的衍射。简单的一维棒状和管状，纳米线之类的通过TEM就能确定复杂一些的，通过SEM观察其形貌画出其几何模型再通过TEM表征，确定可能的晶面计算晶面间二面角，确认是否和SEM比TEM观测到的图像及几何模型吻合，这样就能推出各个面的晶面指数。

所谓晶面，是指晶体中的平面点阵面（晶体宏观的外表面也称晶面），晶面用晶面指标定义，晶面在三个晶轴上的倒易截数之比可以化为一组互质的整数比hkl，如立方晶系100面代表与晶胞侧面平行的一组点阵面，110面为沿面对角线将晶胞平分的一组点阵面，111面为与体对角线垂直的一组点阵面。