光刻胶和光刻机有什么区别

光刻胶和光刻机有什么区别2，光刻机和光刻胶的区别3，半导体核心材料光刻胶概述1，光刻胶和光刻机有什么区别两者的区别如下：光刻胶是一种特殊的光敏材料，用于在光刻过程中形成图案。光刻胶接收到紫外线光照后会发生化学反应，形成可溶解或不溶解于特定溶剂的区域，从而形成所需的图案。光刻机是用于将光刻胶图案转移到硅片或其他基片上的设备。光刻机通过照射光刻胶并使用光学系统进行图案转移。2，光刻机和光刻胶的区别根据查询爱采购网得知，光刻胶和光刻机的区别如下：1.原理不同：光刻胶是一种化学物质，在光照下发生化学反应，并在...